Andreas Schubert
TEM-Untersuchungen an Silicidschichten
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Kurzfassung in Deutsch
In dieser Arbeit wurden Ni-Si-Ga-Schichten mit Hilfe der Transmissionselektronenmikroskopie charakterisiert.
weitere Metadaten
| Schlagwörter | Durchstrahlungselektronenmikroskopie |
| Schlagwörter | Nickeldisilicid |
| Schlagwörter | TEM |
| Schlagwörter | dünne Schichten |
| SWD Schlagworte | Elektronenbeugung |
| SWD Schlagworte | Elektronenmikroskopie |
| SWD Schlagworte | Epitaxie |
| SWD Schlagworte | Silicide |
| DDC Klassifikation | 530 |
| Institution(en) | |
| Hochschule | TU Chemnitz |
| Fakultät | Fakultät für Naturwissenschaften |
| Dokumententyp | Diplomarbeit |
| Sprache | Deutsch |
| Tag d. Einreichung (bei der Fakultät) | 11.10.2005 |
| Veröffentlichungsdatum (online) | 01.12.2005 |
| persistente URN | urn:nbn:de:swb:ch1-200501612 |