Dipl. Phys. Ronny Kleinhempel

Untersuchungen zum Cross-Magnetron-Effekt bei der reaktiven Indium-Zinnoxid-Abscheidung

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Kurzfassung in Deutsch

In der vorliegenden Arbeit wird der reaktive ITO-Abscheidprozess unter Verwendung metallischer In:Sn-Targets eingehend untersucht. Die Schichtabscheidung erfolgt am symmetrisch bipolar gepulstem Dual-Magnetron sowohl auf ruhende als auch bewegte Substrate.
Die Arbeit umfasst zwei Teilgebiete. Einerseits wurde der dynamische ITO-Abscheideprozess an einer industrienahen Versuchsanlage umfassend charakterisiert und anhand seiner physikalischen Parameter erfolgreich an eine industrielle Beschichtungsanlage überführt.
Andererseits fanden statische Beschichtungen statt. Diese ermöglichen die Analyse der lateralen Verteilung der funktionellen Schichteigenschaften. Dadurch konnte eine Korrelation zu den lateralen Verteilungen der gemessenen Plasmaparameter herausgearbeitet werden.

weitere Metadaten

Schlagwörter
Cross-Magnetron-Effekt
Schlagwörter
ITO
Schlagwörter
Schicht- und Plasmacharakterisierung
SWD SchlagworteMagnetronsputtern
SWD SchlagworteTransparent-leitendes Oxid
DDC Klassifikation500
Institution(en) 
HochschuleTU Chemnitz
FakultätFakultät für Naturwissenschaften
BetreuerProf. Dr. Frank Richter
GutachterProf. Dr. Frank Richter
Prof. Dr. Walter Hoyer
Prof. Dr. Dieter Mergel
DokumententypDissertation
SpracheDeutsch
Tag d. Einreichung (bei der Fakultät)15.11.2007
Tag d. Verteidigung / Kolloquiums / Prüfung13.03.2008
Veröffentlichungsdatum (online)22.08.2008
persistente URNurn:nbn:de:bsz:ch1-200800783

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